代理德國海德漢HEIDENHAIN光柵尺

海德漢公司的敞開式直線光柵尺特別適用于高速和精密機床。盡管機械結(jié)構(gòu)是敞開式的，但它抗污染能力強，長期穩(wěn)定性好和安裝速度快和安裝方便。高質(zhì)量的光柵和掃描方式是直線光柵尺高精度和可靠工作的保證。海德漢公司的敞開式直線光柵尺用單場掃描原理。只需一個掃描場生成掃描信號。與四場掃描不同，單場掃描光柵尺上的局部污染（例如安裝時的手指印或?qū)к売偷挠偷挝廴荆┯绊懶盘柗至抗鈴姡虼说攘坑绊憭呙栊盘枴］敵鲂盘柗惦m有變化，但無偏移和無相位變化。這些信號仍可進行高倍頻細分使單信號周期內(nèi)的位置誤差保持很小。此外，大面積掃描場還能降低對污染的敏感性。這常常可以避免光柵尺失效。這一點對于LIDA 400和LIF 400尤其突出，相對其柵距，其掃描面積達14.5 mm2，以及LIC 4100達15.5 mm2。即使有3 mm以內(nèi)的打印機墨滴，印刷電路板粉塵，水滴或油滴，這些編碼器仍然可以輸出高質(zhì)量信號。位置誤差遠遠低于光柵尺精度等級對應(yīng)的誤差值。敞開式直線光柵尺的自身特點是其測量基準的抗污染能力較低。為此，海德漢公司采用*工藝生產(chǎn)非常堅固耐磨的光柵。DIADUR工藝是將硬鉻線刻在玻璃或鋼基體上。OPTODUR和SUPRADUR工藝是在主反射層上加一層透光層。超細、堅硬的鍍鉻層形成三維光學相位光柵。采用成像掃描原理的METALLUR光柵的結(jié)構(gòu)也非常類似。

實踐證明OPTODUR、SUPRADUR或METALLUR光柵測量基準的抗污能力非常強，由于其刻線高度小，灰塵、污物或水滴難以留在其表面上，使這種測量基準的抗污染能力非常出眾。信號周期越小一般也要求讀數(shù)頭與鋼帶光柵尺間的安裝公差越小。這是光柵的衍射作用造成的。只要間隙變化±0.1 mm，信號將衰減50%。但由于在光柵尺中采用了干涉掃描原理和創(chuàng)新的掃描掩膜技術(shù)以及成像掃描原理，即使很小的信號周期也能允許較大安裝公差。海德漢公司的敞開式直線光柵尺的安裝誤差只對輸出信號有輕微影響。特別是光柵尺帶與讀數(shù)頭間要求的間隙誤差（掃描間隙）對信號幅值影響極小。這是為什么海德漢公司的敞開式直線光柵尺具有高可靠性的原因。通過這兩幅圖可看出LIDA 400和LIF 400系列光柵尺掃描間隙與信號幅值間關(guān)系。光電池將這些交變的光強信號轉(zhuǎn)化成電信號。掃描掩膜與光柵尺帶的相對運動使*級的衍射光產(chǎn)生相位移：當光柵移過一個柵距時，前一級的+1衍射光在正方向上移過一個光波波長，-1衍射光在負方向上移過一個光波波長。由于這兩個光波在離開掃描光柵時將發(fā)生干涉，光波將彼此相對移動兩個光波波長。也就是說，相對移動一個柵距可以得到兩個信號周期。在反光的金層上覆蓋薄薄一層玻璃。在該層的鉻線只有數(shù)納米厚，半透明和起減振作用。代理德國海德漢HEIDENHAIN光柵尺

ROD431-1024 317393-02 317393-52 538727-52 ROD320.005-2500 291843-01
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EQN1325-2048 538234-51 EQN1325-2048 515385-01
EQN1325.048-2048 655251-01 EQN425 312214-16
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海德漢公司的光學掃描光柵尺或編碼器的測量基準都是周期刻線－光柵。這些光柵刻在玻璃或鋼材基體上。大長度測量用的光柵尺帶的基體為鋼帶。這種方法除了能刻制柵距非常小的光柵外，而且刻制的光柵線條邊緣清晰、均勻。再加上光電掃描法，這些邊緣清晰的刻線是輸出高質(zhì)量信號的關(guān)鍵。母版光柵采用海德漢公司定制的精密刻線機制造。測量法是指編碼器通電時就立即提供位置值并隨時供后續(xù)信號處理電子電路讀取。無需移動軸執(zhí)行參考點回零操作。位置信息來自光柵碼盤，它由一系列碼組成。單獨的增量刻軌信號用于在細分后得到位置值，同時也生成供選用的增量信號（與接口類型有關(guān)）。增量測量法的光柵由周期性刻線組成。位置信息通過計算自某個設(shè)置的原點開始的增量數(shù)（測量步距數(shù)）獲得。由于必須用參考點確定位置值，因此測量基準的光柵尺上還刻有一個參考點軌。參考點確定的光柵尺帶的位置值可以精確到一個信號周期。因此，必須通過掃描參考點建立基準點或確定上次選擇的原點。zui差情況時，機床需要移動測量范圍上的較大部分。為加快和簡化“參考點回零”操作，許多海德漢光柵尺刻有距離編碼參考點，這些參考點彼此相距數(shù)學算法確定的距離。移過兩個相鄰參考點后（一般只需運動數(shù)毫米）（見下表），后續(xù)電子電路就能找到參考點位置。大多數(shù)海德漢公司的光柵尺或編碼器都用光電掃描原理。光電掃描測量基準是非接觸式掃描，因此無磨損。

這種光電掃描方法能檢測到非常細的線條，通常不超過幾微米寬，而且能生成信號周期很小的輸出信號。簡單地說成像掃描原理是用透射光生成信號：兩個具有相同或相近柵距的光柵尺與掃描掩碼彼此相對運動。掃描掩膜的基體是透明的，而作為測量基準的光柵可以是透明的也可以是反射的。當平行光穿過一個光柵時，在一定距離處形成明/暗區(qū)。具有相同或相近柵距的掃描光柵就在這個位置處。當兩個光柵相對運動時，穿過光柵尺的光得到調(diào)制：如果狹縫對齊，光線通過。如果一個光柵的刻線與另一個光柵的狹縫對齊，光線無法通過。光電池將這些光強變化轉(zhuǎn)化成電信號。特殊結(jié)構(gòu)的掃描掩膜將光強調(diào)制為近正弦輸出信號。柵距越小，掃描掩膜和光柵尺帶間的間距越小，公差越嚴。如果對10 μm或更大柵距的編碼器進行成像掃描，允許的編碼器安裝公差相對較大。干涉掃描原理是利用精細光柵的衍射和干涉形成位移的測量信號。階梯狀光柵用作測量基準：高度0.2μm的反光線刻在平反光面中。光柵尺帶的前方是掃描掩膜，其柵距與光柵尺帶的柵距相同，是透射相位光柵。光波照射到掃描掩膜時，光波被衍射為三束光強近似的光：-1、0和+1。光柵尺帶衍射的光波中，反射的衍射光中光強zui強的光束為+1和-1。這兩束光在掃描掩膜的相位光柵處再次相遇，又一次被衍射和干涉。它也形成三束光，并以不同的角度離開掃描掩膜。